根據最新信息《Radiophysics And Quantum Electronics》期刊在JCR分區中的排名如下：
按JIF指標學科分區學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名301 / 352，百分位14.6%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名165 / 179，百分位8.1%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名37 / 40，百分位8.8%；按JCI指標學科分區在學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名307 / 354，百分位13.42%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名160 / 179，百分位10.89%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名39 / 40，百分位3.75%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 301 / 352 |
14.6% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1% |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 37 / 40 |
8.8% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 307 / 354 |
13.42% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 160 / 179 |
10.89% |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 39 / 40 |
3.75% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創刊時間：1965年，影響因子：0.8，出版周期：Monthly、出版商：Springer US以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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