根據最新信息《Plasma Sources Science & Technology》期刊在JCR分區中的排名如下：
按JIF指標學科分區學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q1區，排名6 / 40，百分位86.3%；按JCI指標學科分區在學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q1區，排名6 / 40，百分位86.25%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
這表明該刊在物理：流體與等離子體領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創刊時間：1992年，影響因子：3.3，出版周期：Bimonthly、出版商：IOP Publishing Ltd.以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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