當前未查詢到Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志影響因子具體數(shù)據(jù)，以下是該期刊的其他相關(guān)信息供您參考。建議您聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服，以便更精準地獲取所需資料。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標。
以下是如何查看影響因子的幾種方法：
一、通過專業(yè)數(shù)據(jù)庫查詢
1. 通過Web of Science數(shù)據(jù)庫查詢：Web of Science是一個權(quán)威的學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫，提供期刊影響因子的官方數(shù)據(jù)。
2.中國知網(wǎng)（CNKI）：在CNKI中，用戶可以通過期刊導(dǎo)航功能搜索目標期刊，并在期刊詳情頁面查看其影響因子。
3.使用JCR：JCR是專門提供期刊引證報告的工具，隸屬于Web of Science。
二、查閱學(xué)術(shù)期刊官方網(wǎng)站
許多學(xué)術(shù)期刊會在其官方網(wǎng)站上公布最新的影響因子數(shù)據(jù)。
三、參考學(xué)術(shù)權(quán)威指南和排名
影響因子是一個動態(tài)變化的指標，會隨著時間的推移而發(fā)生變化。因此，在查看影響因子時，需要關(guān)注其發(fā)布的時間點。
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志創(chuàng)刊于2007年，由SPIE出版商出版，出版周期為Quarterly，國際簡稱為J MICRO-NANOLITH MEM，中文名稱微納光刻技術(shù)雜志。該雜志旨在及時、準確、全面地報道國內(nèi)外ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進展及學(xué)術(shù)動態(tài)、技術(shù)革新等，促進學(xué)術(shù)交流，鼓勵學(xué)術(shù)創(chuàng)新。
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志分區(qū)情況
中科院分區(qū)：在中科院最新升級版分區(qū)表中，大類學(xué)科物理與天體物理位于2區(qū)，小類學(xué)科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣位于3區(qū)。
JCR分區(qū)：根據(jù)最新JCR分區(qū)， 按JIF指標學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，位于Q3區(qū)，排名187 / 275，百分位32.2%；MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，位于Q3區(qū)，排名255 / 342，百分位25.6%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q4區(qū)，排名91 / 107，百分位15.4%；OPTICS，位于Q3區(qū)，排名68 / 100，百分位32.5%；
投稿咨詢| 按JIF指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2% |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5% |
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志評價數(shù)據(jù)
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