根據(jù)最新信息《Ieee Industry Applications Magazine》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名308 / 352，百分位12.6%；ENGINEERING, INDUSTRIAL，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名63 / 69，百分位9.4%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名328 / 354，百分位7.49%ENGINEERING, INDUSTRIAL，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名62 / 69，百分位10.87%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 308 / 352 |
12.6% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, INDUSTRIAL | SCIE | Q4 | 63 / 69 |
9.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 328 / 354 |
7.49% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, INDUSTRIAL | SCIE | Q4 | 62 / 69 |
10.87% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：1995年，影響因子：0.7，出版周期：Bimonthly、出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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