International Journal Of Applied Pattern Recognition SCIE

國際應用模式識別雜志雜志

JCR分區：Q4 預計審稿周期：

《International Journal Of Applied Pattern Recognition》是一本國際刊物，國際簡稱為INT J APPL PATTERN R，中文名稱國際應用模式識別雜志。出版周期為。《International Journal Of Applied Pattern Recognition》2023年影響因子為1.1，被收錄于國際知名權威數據庫SCIE。

ISSN：2049-887X

研究方向：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE

是否預警：否

E-ISSN：2049-8888

Gold OA文章占比：0.00%

語言：English

是否OA：未開放

影響因子：1.1

年發文量：4

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雜志簡介 JCR分區

International Journal Of Applied Pattern Recognition 雜志簡介

《International Journal Of Applied Pattern Recognition》重點專注發布COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE領域的新研究，旨在促進和傳播該領域相關的新技術和新知識。鼓勵該領域研究者詳細地發表他們的高質量實驗研究和理論結果。

International Journal Of Applied Pattern Recognition 雜志JCR分區

Web of Science 數據庫（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE	ESCI	Q4	167 / 197	15.5%

按JCI指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：COMPUTER SCIENCE, ARTIFICIAL INTELLIGENCE	ESCI	Q4	179 / 198	9.85%

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