《Micromachines》雜志的影響因子為3。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
以下是如何查看影響因子的幾種方法：
一、通過(guò)專(zhuān)業(yè)數(shù)據(jù)庫(kù)查詢(xún)
1. 通過(guò)Web of Science數(shù)據(jù)庫(kù)查詢(xún)：Web of Science是一個(gè)權(quán)威的學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)，提供期刊影響因子的官方數(shù)據(jù)。
2.中國(guó)知網(wǎng)（CNKI）：在CNKI中，用戶(hù)可以通過(guò)期刊導(dǎo)航功能搜索目標(biāo)期刊，并在期刊詳情頁(yè)面查看其影響因子。
3.使用JCR：JCR是專(zhuān)門(mén)提供期刊引證報(bào)告的工具，隸屬于Web of Science。
二、查閱學(xué)術(shù)期刊官方網(wǎng)站
許多學(xué)術(shù)期刊會(huì)在其官方網(wǎng)站上公布最新的影響因子數(shù)據(jù)。
三、參考學(xué)術(shù)權(quán)威指南和排名
影響因子是一個(gè)動(dòng)態(tài)變化的指標(biāo)，會(huì)隨著時(shí)間的推移而發(fā)生變化。因此，在查看影響因子時(shí)，需要關(guān)注其發(fā)布的時(shí)間點(diǎn)。
《Micromachines》雜志創(chuàng)刊于2010年，由MDPI (Basel, Switzerland)出版商出版，出版周期為12 issues/year，國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng)為MICROMACHINES-BASEL，中文名稱(chēng)微型機(jī)器。該雜志旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY-INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)、技術(shù)革新等，促進(jìn)學(xué)術(shù)交流，鼓勵(lì)學(xué)術(shù)創(chuàng)新。
《Micromachines》雜志分區(qū)情況
中科院分區(qū)：在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，大類(lèi)學(xué)科工程技術(shù)位于3區(qū)，小類(lèi)學(xué)科CHEMISTRY, ANALYTICAL分析化學(xué)位于3區(qū)。
JCR分區(qū)：根據(jù)最新JCR分區(qū)， 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：CHEMISTRY, ANALYTICAL，位于Q2區(qū)，排名41 / 106，百分位61.8%；INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，位于Q2區(qū)，排名26 / 76，百分位66.4%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q3區(qū)，排名84 / 140，百分位40.4%；PHYSICS, APPLIED，位于Q2區(qū)，排名67 / 179，百分位62.8%； 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：CHEMISTRY, ANALYTICAL，位于Q2區(qū)，排名52 / 106，百分位51.42%。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，位于Q2區(qū)，排名32 / 76，百分位58.55%。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q2區(qū)，排名67 / 140，百分位52.5%。PHYSICS, APPLIED，位于Q2區(qū)，排名74 / 179，百分位58.94%。
投稿咨詢(xún)| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：CHEMISTRY, ANALYTICAL | SCIE | Q2 | 41 / 106 |
61.8% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 26 / 76 |
66.4% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 84 / 140 |
40.4% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 67 / 179 |
62.8% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：CHEMISTRY, ANALYTICAL | SCIE | Q2 | 52 / 106 |
51.42% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 32 / 76 |
58.55% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q2 | 67 / 140 |
52.5% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 74 / 179 |
58.94% |
《Micromachines》雜志評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)
影響因子：3
Gold OA文章占比：99.70%
CiteScore：5.2
SJR：0.549
SNIP：0.9
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